我國半導(dǎo)體制造核心技術(shù)突破 僅次于光刻的重要環(huán)節(jié)打破國外壟斷
發(fā)布時(shí)間:2024-09-10麥斯克電子材料股份有限公司點(diǎn)擊:384
免責(zé)聲明:本站部分圖片和文字來源于網(wǎng)絡(luò)收集整理,僅供學(xué)習(xí)交流,版權(quán)歸原作者所有,并不代表我站觀點(diǎn)。本站將不承擔(dān)任何法律責(zé)任,如果有侵犯到您的權(quán)利,請(qǐng)及時(shí)聯(lián)系我們刪除。
據(jù)國家電力投資集團(tuán)有限公司(以下簡稱“國家電投”)9月10日消息,近日,國家電投所屬國電投核力創(chuàng)芯(無錫)科技有限公司(以下簡稱“核力創(chuàng)芯”)暨國家原子能機(jī)構(gòu)核技術(shù)(功率芯片質(zhì)子輻照)研發(fā)中心,完成首批氫離子注入性能優(yōu)化芯片產(chǎn)品客戶交付。
國家電投表示,這標(biāo)志著我國已全面掌握功率半導(dǎo)體高能氫離子注入核心技術(shù)和工藝,補(bǔ)全了我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中缺失的重要一環(huán),為半導(dǎo)體離子注入設(shè)備和工藝的全面國產(chǎn)化奠定了基礎(chǔ)。
據(jù)國家電投介紹,氫離子注入是半導(dǎo)體晶圓制造中僅次于光刻的重要環(huán)節(jié),在集成電路、功率半導(dǎo)體、第三代半導(dǎo)體等多種類型半導(dǎo)體產(chǎn)品制造過程中起著關(guān)鍵作用,該領(lǐng)域核心技術(shù)及裝備工藝的缺失嚴(yán)重制約了我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的高端化發(fā)展,特別是600V以上高壓功率芯片長期依賴進(jìn)口。核力創(chuàng)芯的技術(shù)突破,打破了國外壟斷。
核力創(chuàng)芯在遭遇外國關(guān)鍵技術(shù)及裝備封鎖的不利條件下,堅(jiān)持自力更生,自主創(chuàng)新,打造新質(zhì)生產(chǎn)力,在不到三年的時(shí)間里,突破多項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)壁壘,實(shí)現(xiàn)了100%自主技術(shù)和100%裝備國產(chǎn)化,建成了我國首個(gè)核技術(shù)應(yīng)用和半導(dǎo)體領(lǐng)域交叉學(xué)科研發(fā)平臺(tái)。首批交付的芯片產(chǎn)品經(jīng)歷了累計(jì)近萬小時(shí)的工藝及可靠性測試驗(yàn)證,主要技術(shù)指標(biāo)達(dá)到國際先進(jìn)水平,獲得用戶高度評(píng)價(jià)。
來源:國家電投